包含双-氧代亚二氢吲哚基-苯并二呋喃酮的NIR惰性基底

摘要

制备红外惰性基底的方法，包括在该基底中或该基底表面上并入有效量的分散的双-氧代亚二氢吲哚基-苯并二呋喃酮着色剂，所述基底包括模塑的聚合物制品、膜、纤维、和涂层以及其它有机和无机材料。由此获得的、也要求保护的这样生成的基底为反射性的并对大部分未反射的近红外照射为穿过的。有多种应用，包括电子元件的设备用外壳，户外建筑元件，户外家具，机动车，海上或航空部件，层压材料，人造皮革或织物材料，以及用于多色印刷方法和光纤。由此获得的基底也可接收激光焊接。还要求保护新的双-氧代亚二氢吲哚基-苯并二呋喃酮化合物。

主权项

1.制备近红外惰性的有机或无机基底的方法，该方法包括将含有下式的双-氧代亚二氢吲哚基-苯并二呋喃酮着色剂或其异构体或互变异构体，优选式(Ia)或(Ib)的颜料或其异构体或互变异构体的组合物并入所述基底中或施用在所述基底的表面上，其中式(Ia)或(Ib)的双-氧代亚二氢吲哚基-苯并二呋喃酮着色剂或其异构体或互变异构体为平均尺寸≤0.5μm的颗粒形式或平均尺寸＞0.5μm且厚度≥0.4μm的颗粒形式，它们以有效赋予反射性有机或无机基底≥20％的红外反射率、赋予透过性有机或无机基底≥30％的红外透射率、或赋予半透过性有机或无机基底≥25％的组合红外反射率和透射率的量良好分散在所述组合物中，每种情况下波长均在850至1600nm，在式(Ia)和(Ib)中，R₁和R₆各自彼此独立地为H、CH₃、CF₃、F或Cl，优选H或F，最优选H；R₂、R₃、R₄、R₅、R₇、R₈、R₉和R₁₀各自彼此独立地为H、卤素、R₁₁、COOH、COOR₁₁、COO^-、CONH₂、CONHR₁₁、CONR₁₁R₁₂、CN、OH、OR₁₁、OOCR₁₁、OOCNH₂、OOCNHR₁₁、OOCNR₁₁R₁₂、NO₂、NH₂、NHR₁₁、NR₁₁R₁₂、NHCOR₁₂、NR₁₁COR₁₂、N＝CH₂、N＝CHR₁₁、N＝CR₁₁R₁₂、SH、SR₁₁、SOR₁₁、SO₂R₁₁、SO₃R₁₁、SO₃H、SO₃^-、SO₂NH₂、SO₂NHR₁₁或SO₂NR₁₁R₁₂；其中R₂和R₃、R₃和R₄、R₄和R₅、R₇和R₈、R₈和R₉、和/或R₉和R₁₀可任选地通过直接键或O、S、NH或NR₁₁桥连接在一起；R₁₁和R₁₂各自彼此独立地为C₁-C₁₂烷基、C₁-C₁₂环烷基、C₁-C₁₂链烯基、C₁-C₁₂环烯基或C₁-C₁₂炔基，它们各自未被插入或被O、NH、NR₁₃和/或S插入分隔成各自包含至少两个C原子的两个或更多个片段，以及它们各自也为未取代的或者被COOH、COOR₁₃、COO^-、CONH₂、CONHR₁₃、CONR₁₃R₁₄、CN、O、OH、OR₁₃、OOCR₁₃、OOCNH₂、OOCNHR₁₃、OOCNR₁₃R₁₄、NR₁₃、NH₂、NHR₁₃、NR₁₃R₁₄、NHCOR₁₄、NR₁₃COR₁₄、N＝CH₂、N＝CHR₁₃、N＝CR₁₃R₁₄、SH、SR₁₃、SOR₁₃、SO₂R₁₃、SO₃R₁₃、SO₃H、SO₃^-、SO₂NH₂、SO₂NHR₁₃、SO₂NR₁₃R₁₄或卤素取代一次或多次；或C₇-C₁₂芳烷基、C₁-C₁₁杂芳基或C₆-C₁₂芳基，它们各自为未取代的或被COOH、COOR₁₃、COO^-、CONH₂、CONHR₁₃、CONR₁₃R₁₄、CN、OH、OR₁₃、OOCR₁₃、OOCNH₂、OOCNHR₁₃、OOCNR₁₃R₁₄、NO₂、NH₂、NHR₁₃、NR₁₃R₁₄、NHCOR₁₄、NR₁₃COR₁₄、N＝CH₂、N＝CHR₁₃、N＝CR₁₃R₁₄、SH、SR₁₃、SOR₁₃、SO₂R₁₃、SO₃R₁₃、SO₃H、SO₃^-、SO₂NH₂、SO₂NHR₁₃、SO₂NR₁₃R₁₄或卤素取代一次或多次；以及R₁₃或R₁₄各自独立于任何其它的R₁₃或R₁₄，为C₁-C₆烷基、苄基或苯基，它们各自为未取代的或被前段中定义的取代基取代一次或多次，前提是任何R₁₃和R₁₄取代基中总碳原子数为1至8；其中选自所有R₁₃和R₁₄组成的组的取代基对可任选地通过直接键或O、S、NH或NR₁₁桥连接在一起，从而形成环。