| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种化学机械抛光液，该抛光液含有：研磨颗粒、水、含卤素取代的异氰脲酸和/或其盐以及络合剂。该抛光液具有很好的抛光性能，对金属尤其是铜的抛光速率有显著的提高。 | ||
| 申请公布号 | CN101747840A | 申请公布日期 | 2010.06.23 |
| 申请号 | CN200810203712.8 | 申请日期 | 2008.11.28 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 王晨;杨春晓 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;C23F3/00(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光液，包含研磨颗粒、水，含卤素取代的异氰脲酸和/或其盐以及络合剂。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||