发明名称 |
等离子体加工设备 |
摘要 |
本发明提供一种等离子体加工设备,包括:相对设置的第一电极板和第二电极板,匹配装置,功率分配装置和电源装置;所述第一电极板包括至少两个相互绝缘的子电极板,所述电源装置通过所述匹配装置与所述功率分配装置连接,所述功率分配装置与所述第一电极板连接,用于将电源装置的功率分配输入到所述各个子电极,所述功率分配装置至少包括电容和/或电感。所述等离子体加工设备,通过功率分配装置电源的功率被分配成与第一电极板的子电极数量对应的若干个部分,每一部分的功率都单独输入到对应的子电极,在每个子电极板和第二电极板之间获得独立的电场分布,从而实现对大面积衬底上方的不同区域电场强度的控制,使等离子体在整个衬底上方的分布可调,能够提高大面积等离子体加工的均匀性。 |
申请公布号 |
CN101754564A |
申请公布日期 |
2010.06.23 |
申请号 |
CN200810224715.X |
申请日期 |
2008.12.09 |
申请人 |
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
发明人 |
韦刚 |
分类号 |
H05H1/46(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I |
主分类号 |
H05H1/46(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
逯长明 |
主权项 |
一种等离子体加工设备,其特征在于,包括:相对设置的第一电极板和第二电极板,匹配装置,功率分配装置和电源装置;所述第一电极板包括至少两个相互绝缘的子电极板,所述电源装置通过所述匹配装置与所述功率分配装置连接,所述功率分配装置与所述第一电极板连接,用于将电源装置的功率分配输入到所述各个子电极,所述功率分配装置至少包括电容和/或电感。 |
地址 |
100016 北京市朝阳区酒仙桥东路一号 |