发明名称 |
液体排出头及其制造方法以及用于其的流路构件 |
摘要 |
液体排出头及其制造方法以及用于其的流路构件。一种液体排出头,其包括液体排出基板和流路构件,该液体排出基板包括用于排出液体的排出口,该流路构件包括:对激光束具有透过性的透过构件;能够吸收激光束的吸收构件;以及用于将液体供给到液体排出基板的流路,其中,通过透过所述透过构件向吸收构件的构成所述流路的壁的一部分的流路部和流路部的周边发出激光束,由此在所述流路部的周边将所述透过构件和所述吸收构件熔接在一起,而在所述透过构件和所述吸收构件之间形成所述流路,并且所述流路部包括相对于已经透过所述透过构件的激光束的方向倾斜的倾斜面。 |
申请公布号 |
CN101746139A |
申请公布日期 |
2010.06.23 |
申请号 |
CN200910261225.1 |
申请日期 |
2009.12.17 |
申请人 |
佳能株式会社 |
发明人 |
及川悟司;森田攻 |
分类号 |
B41J2/14(2006.01)I;B41J2/16(2006.01)I |
主分类号 |
B41J2/14(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所 11277 |
代理人 |
刘新宇 |
主权项 |
一种液体排出头,其包括:液体排出基板,该液体排出基板包括用于排出液体的排出口;以及流路构件,该流路构件包括对激光束具有透过性的透过构件、能够吸收激光束的吸收构件以及用于将液体供给到所述液体排出基板的流路,其中,通过透过所述透过构件向所述吸收构件的构成所述流路的壁的一部分的流路部和向所述流路部的周边发出激光束,由此在所述流路部的所述周边将所述透过构件和所述吸收构件相互熔接,而在所述透过构件和所述吸收构件之间形成所述流路,并且所述流路部包括相对于已经透过所述透过构件的激光束的方向倾斜的倾斜面。 |
地址 |
日本东京都大田区下丸子3丁目30-2 |