发明名称 用于辐射检测的半导体器件
摘要 本发明提供一种用于辐射检测的半导体器件(11),其包括:由例如硅等的衬底半导体材料构成的衬底区域(1)以及在半导体器件(11)的表面上的检测区域(3),在检测区域(3)中,当电磁辐射(L)入射到半导体器件(11)上时产生并检测第一导电类型的电荷载流子,例如电子。该半导体器件(11)还包括由阻挡半导体材料或绝缘材料材料构成的阻挡区域(2,5,14),该阻挡区域(2,5,14)是衬底区域(1)和检测区域(3)之间的用于电离辐射(X)(例如X射线)透射到衬底区域(1)中而在衬底区域(1)中产生的电荷载流子的障碍物。通过这种方式,本发明提供一种用于辐射检测的半导体器件(11),其中减少了透射到衬底区域(1)中的如X射线等的电离辐射(X)对半导体器件的性能的影响。
申请公布号 CN101401220B 申请公布日期 2010.06.23
申请号 CN200780009055.7 申请日期 2007.03.13
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 A·黑林格;E·J·劳斯;W·D·范诺尔特;W·C·M·彼得斯;J·W·C·韦尔特坎普
分类号 H01L31/115(2006.01)I 主分类号 H01L31/115(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 陈松涛
主权项 一种用于辐射检测的半导体器件(11),包括:由衬底半导体材料构成的衬底区域(1)以及在所述半导体器件(11)的表面上的检测区域(3),在该检测区域(3)中,当电磁辐射(L)入射到所述半导体器件(11)上时产生电荷载流子,并且检测第一导电类型的电荷载流子,该半导体器件(11)还包括阻挡区域(2,5,14),该阻挡区域是所述衬底区域(1)和所述检测区域(3)之间的障碍物,该障碍物用于限制电离辐射(X)透射到所述衬底区域(1)中而在衬底区域(1)中产生的所述第一导电类型的电荷载流子,该半导体器件(11)还包括由所述第一导电类型的半导体材料构成的泄漏区域(6),其延伸到所述衬底区域(1)中并与所述检测区域(3)的侧面区域和所述阻挡区域(2,5,14)的侧面区域相邻。
地址 荷兰艾恩德霍芬