发明名称 |
用于制造图像传感器的方法 |
摘要 |
本发明提供一种用于制造图像传感器的方法。在此方法中,由氧化物层形成微透镜。可利用氮气作为掺杂剂来形成用于微透镜的氧化物层。可在氧化物层上形成多个光致抗蚀剂图案,并可利用光致抗蚀剂图案作为掩模来蚀刻氧化物层,以形成具有恒定曲率的氧化物层微透镜。在进一步的实施例中,可在形成氧化物层微透镜期间对光致抗蚀剂图案施加等离子体处理。利用本发明的方法,能够将多个微透镜之间的间隙最小化,从而改善氧化物层微透镜的性质。 |
申请公布号 |
CN101308818B |
申请公布日期 |
2010.06.23 |
申请号 |
CN200810099298.0 |
申请日期 |
2008.05.16 |
申请人 |
东部高科股份有限公司 |
发明人 |
郑冲耕 |
分类号 |
H01L21/82(2006.01)I;H01L27/146(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/82(2006.01)I |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 72003 |
代理人 |
郑小军 |
主权项 |
一种用于制造图像传感器的方法,包括以下步骤:提供包含光电二极管的衬底;利用氮气作为掺杂剂,在所述衬底上形成氧化物层;在所述氧化物层上形成多个光致抗蚀剂图案;以及利用所述光致抗蚀剂图案作为掩模,由所述氧化物层形成多个氧化物层微透镜,其中形成所述多个氧化物层微透镜的步骤包括:利用所述光致抗蚀剂图案作为掩模,初步蚀刻所述氧化物层;对所述光致抗蚀剂图案执行等离子体处理;以及利用被等离子体处理过的光致抗蚀剂图案作为掩模,蚀刻被初步蚀刻的氧化物层。 |
地址 |
韩国首尔 |