| 发明名称 | 相移掩模 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种相移掩模，包括透光图形，所述透光图形的形状包括对称的星型，所述的星型具有四个以上偶数个外凸角，所述外凸角以星型的中心为对称中心成中心对称。与现有技术相比，本发明在相移掩模上采用具有四个以上偶数个外凸角的星型图形，可以明显降低旁瓣效应，但又在其他光学参数上与本领域常用的透光图形保持不变。 | ||
| 申请公布号 | CN101750873A | 申请公布日期 | 2010.06.23 |
| 申请号 | CN200810204180.X | 申请日期 | 2008.12.08 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 刘娟 |
| 分类号 | G03F1/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 李丽 |
| 主权项 | 一种相移掩模，包括透光图形，其特征在于：所述透光图形的形状包括对称的星型，所述的星型具有四个以上偶数个外凸角，所述外凸角以星型的中心为对称中心成中心对称。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||