| 发明名称 | 用于光学临近修正的确定图形外轮廓的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种用于光学临近修正的确定图形外轮廓的方法，包括步骤：提供电路布局图形；设定多个测试点组，各测试点组内的测试点的连线对应与所述图形外轮廓的一段相交；获取测试点的光强；寻找光强与所述外轮廓的设定光强值最接近的测试点作为基准点；通过基准点确定位于所述图形外轮廓之外的外部测试点数量；统计外部测试点数量的分布；通过所述分布确定所需的外部测试点的最终数量；将所述外部测试点的最终数量用于确定所述电路布局图形的所有外轮廓。与现有技术相比，本发明可以减少外部测试点的数量，在基本保持计算精度的前提下降低OPC的计算量。 | ||
| 申请公布号 | CN101750877A | 申请公布日期 | 2010.06.23 |
| 申请号 | CN200810207516.8 | 申请日期 | 2008.12.22 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 王伟斌;张飞 |
| 分类号 | G03F1/14(2006.01)I;G03F1/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 李丽 |
| 主权项 | 一种用于光学临近修正的确定图形外轮廓的方法，其特征在于，包括步骤：提供电路布局图形；设定多个测试点组，各测试点组内的测试点的连线对应与所述图形外轮廓的一段相交；获取测试点的光强；寻找光强与所述外轮廓的设定光强值最接近的测试点作为基准点；通过基准点确定位于所述图形外轮廓之外的外部测试点数量；统计外部测试点数量的分布；通过所述分布确定所需的外部测试点的最终数量；将所述外部测试点的最终数量用于确定所述电路布局图形的所有外轮廓。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||