| 发明名称 | 基材抛光设备和使用该设备抛光基材的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种基材抛光设备和使用该设备抛光基材的方法。该基材抛光设备包括基材支撑件、抛光单元和控制单元。该基材放置在可转动的基材支撑件上。该抛光单元包括可转动和可摆动的抛光垫，用于抛光基材的上表面。该控制单元在抛光工艺中控制该基材支撑件和该抛光单元，以根据抛光垫相对于该基材的水平位置调节抛光变量的值，该抛光变量用于调节该基材的抛光量。因此，该基材抛光设备可以局部地调节该基材的抛光量，从而提高抛光均匀性和成品收率。 | ||
| 申请公布号 | CN101745865A | 申请公布日期 | 2010.06.23 |
| 申请号 | CN200910250128.2 | 申请日期 | 2009.11.27 |
| 申请人 | 细美事有限公司 | 发明人 | 金性洙;吴世勋 |
| 分类号 | B24B29/00(2006.01)I;B24B49/00(2006.01)I;H01L21/302(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;B08B1/04(2006.01)I | 主分类号 | B24B29/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人 | 梁兴龙;武玉琴 |
| 主权项 | 一种基材抛光设备，包括：可转动的基材支撑件，在其上放置基材；可转动和可摆动的抛光单元，抛光放置在所述基材支撑件上的基材的上表面；和控制单元，在抛光工艺中控制所述基材支撑件和所述抛光单元，以根据抛光垫相对于所述基材的水平位置调节抛光变量的值，所述抛光变量用于调节所述基材的抛光量。 | ||
| 地址 | 韩国忠清南道 | ||