成膜装置

摘要

本发明提供一种成膜装置，包括：旋转台，具有载置基板的基板载置区域；真空容器，具有收纳旋转台的容器主体和气密地堵在该容器主体上表面上的顶板；开闭顶板的开闭机构；多个反应气体喷嘴，被支承在外周壁上，设置成贯穿真空容器的容器主体的外周壁而与基板载置区域的通过区域相对并且相互隔开间隔地位于旋转台上相对于旋转中心而言不同相位的位置上，从沿着旋转中心径向设置的气体喷出孔分别将反应气体供给到基板的表面上，由此形成多个处理区域；分离气体供给部件，用于分离多个处理区域之间的气氛，被设置在相对于旋转中心而言处理区域的相位之间的位置上，供给分离气体，由此形成分离区域；以及真空排气部件，对真空容器内的气氛进行排气。

主权项

一种成膜装置，其是利用反应气体而在基板的表面上形成薄膜的成膜装置，其特征在于，包括：旋转台，其具有载置基板的基板载置区域；真空容器，其具有收纳上述旋转台的容器主体和用于气密地堵在该容器主体的上表面上的顶板；开闭机构，其用于开闭上述顶板；多个反应气体喷嘴，其被支承在外周壁上，设置成贯穿上述真空容器的上述容器主体的上述外周壁而与上述基板载置区域的通过区域相对并且相互隔开间隔地位于上述旋转台上的绕旋转中心的不同的角度位置，从沿着相对于上述旋转中心的径向设置的气体喷出孔分别将反应气体供给到基板的表面上，由此形成多个处理区域；分离气体供给部件，其用于分离上述多个处理区域之间的气氛，被设置在相对于上述旋转中心而言上述处理区域的相位之间的位置上，供给分离气体，以形成分离区域；以及真空排气部件，其对上述真空容器内的气氛进行排气。