发明名称 异物除去装置和异物除去方法
摘要 本发明提供异物除去装置和异物除去方法。异物除去方法,能使向被处理基板的热量输入适当而消除不必要的加热、消除多余的处理从而缩短处理时间。该异物除去方法包括:测定用激光照射步骤,对被处理基板照射外径尺寸测定用的激光;输出检测步骤,使在测定用的激光中除被基板的端部遮挡的激光外余下的激光受光并检测激光的输出;旋转角检测步骤,检测旋转的基板的旋转角;计算步骤,基于由输出检测步骤检测出的数据和由旋转角检测步骤检测出的数据计算基板的外径尺寸;分解步骤,基于算出的外径尺寸,从基板外周端对规定范围基板表面,照射照射截面为矩形的异物清洗用激光,喷射与异物反应的处理气体,分解、除去附着于规定范围的基板表面的异物。
申请公布号 CN101752222A 申请公布日期 2010.06.23
申请号 CN200910254050.1 申请日期 2009.12.15
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 近藤昌树;新藤健弘
分类号 H01L21/00(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人 龙淳
主权项 一种异物除去装置,其特征在于,包括:载置基板并旋转的载置台;和对载置于该载置台并旋转的所述基板照射异物清洗用激光、将附着于所述基板表面的异物除去的激光照射部,所述激光照射部对所述基板表面照射照射截面为矩形的激光。
地址 日本东京都