发明名称 |
均匀涂布基片的方法 |
摘要 |
一种利用聚合物溶液涂布基片以产生均匀厚度的膜的方法和装置,其包括将基片安装在封闭式箱体内,以及使控制气体通过入口进入箱体,控制气体可以是含溶剂蒸汽气体。聚合物溶液沉积到箱体内的基片表面上,然后旋转基片。控制气体以及控制气体中悬浮的任何溶剂蒸汽和颗粒杂质通过出口从箱体排出,并通过控制箱体和溶剂的温度而控制溶剂蒸汽浓度,含溶剂蒸汽气体从溶剂中产生。也可以通过混合不同溶剂浓度的气体来控制浓度。还可以控制气体的湿度。 |
申请公布号 |
CN1912744B |
申请公布日期 |
2010.06.23 |
申请号 |
CN200610100516.9 |
申请日期 |
2002.02.21 |
申请人 |
ASML控股公司 |
发明人 |
E·古勒;T·钟;J·刘易冷;E·C·李;R·P·曼达尔;J·C·格拉姆博;T·C·贝特斯;D·R·绍尔;E·R·沃德 |
分类号 |
G03F7/16(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/16(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王波波 |
主权项 |
一种利用聚合物溶液涂布基片表面的方法,该方法包括:将基片安装在封闭式箱体内;将含溶剂聚合物溶液挤出到基片上;以及通过调整引入箱体环境中的溶剂量来控制溶剂从聚合物溶液中的蒸发,其中调整引入箱体环境中的溶剂量包括:通过混合具有不同溶剂蒸汽分压的多种气体来形成控制气体,从而调整引入箱体环境中的控制气体的饱和程度。 |
地址 |
荷兰费得霍恩 |