| 发明名称 |
高比表面基底负载Bi<sub>2</sub>WO<sub>6</sub>光催化膜、方法及应用 |
| 摘要 |
本发明涉及一种高比表面基底负载的Bi2WO6光催化膜、方法及应用。首先，在60～300℃下制备Bi2WO6纳米粉体，再将洁净的高比表面基底浸入Bi2WO6悬浮液中制得Bi2WO6膜，最后经100～950℃热处理，制得高比表面基底负载的Bi2WO6光催化膜。所述的高比表面基底为金属网、泡沫金属或多孔陶瓷。所制备的Bi2WO6膜具有Bi2WO6颗粒尺寸小、光催化活性高、循环性能好、制备工艺简单及生产成本低等特点。同时，此光催化膜可以方便地回收和再利用，解决了纳米光催化剂实际应用中回收困难的难题。用于可见光下降解RhB、空气净化以及光催化抗菌活性方面。 |
| 申请公布号 |
CN101745402A |
申请公布日期 |
2010.06.23 |
| 申请号 |
CN200910197580.7 |
申请日期 |
2009.10.22 |
| 申请人 |
中国科学院上海硅酸盐研究所 |
发明人 |
王文中;徐婕慧 |
| 分类号 |
B01J23/888(2006.01)I;B01J23/31(2006.01)I;B01J27/24(2006.01)I;B01J35/02(2006.01)I;B01J37/00(2006.01)I;A62D3/17(2007.01)I;B01D53/86(2006.01)I;B01D53/72(2006.01)I;A01N59/16(2006.01)I;A01N59/20(2006.01)I;A01P1/00(2006.01)I;C02F1/30(2006.01)I;C02F101/30(2006.01)N;A62D101/20(2007.01)N |
主分类号 |
B01J23/888(2006.01)I |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
高比表面基底负载Bi2WO6光催化膜，其特征在于Bi2WO6纳米粉体沉积在高比表面基底上，生成Bi2WO6光催化膜，所述的高比表面基底为金属网、泡沫金属或多孔陶瓷。 |
| 地址 |
200050 上海市长宁区定西路1295号 |
