发明名称 |
具有高正表面电荷的高分散金属氧化物 |
摘要 |
一种金属氧化物,其用通式(I)的基团修饰:-O1+n-Si(OR1)2-n-R2-NR32(I),其中n可以是0、1、2,其中R1可以是氢原子或C-O键合的C1-C15烃基,或乙酰基,R2可以是Si-C键合的C1-C20烃基或芳基,或C1-C15烃氧基,其中每种情况下,一个或多个、非相邻亚甲基单元可以被基团-O-、-CO-、-COO-、-OCO-或-OCOO-、-S-或-NR3-替代,并且一个或多个非相邻次甲基单元可以被基团-N=、-N=N-或-P=替代,R3可以是氢原子或任选的单或多不饱和N-C键合的、单价的、任选二价的、C1-C20烃基,其任选被-CN、-NCO、-NR42、-COOH、-COOR4、卤素、丙烯酰基、环氧基、-SH、-OH或-CONR42取代,或芳基,或C1-C15烃氧基,其中每种情况下,一个或多个、非相邻亚甲基单元可以被基团-O-、-CO-、-COO-、-OCO-或-OCOO-、-S-或-NR4-替代,并且一个或多个非相邻次甲基单元可以被基团-N=、-N=N-或-P=替代,R3可以相同或不同,或者氨基-N(R3)2也可以是脂族或芳香杂环的部分,R4具有与R1相同的含义,并且R4可以相同或不同,基于T基团T1+T2+T3的总强度,T1和T2基团的NMR信号强度的总和的比例至少为20%,T基团定义如下:T1:R-Si(OR1)2-O-Si,T2:R-Si(OR1)(-O-Si)2,T3:R-Si(-O-Si)3,R是任何希望的有机基团,R1如上所定义或R1可以是氢原子。 |
申请公布号 |
CN101755014A |
申请公布日期 |
2010.06.23 |
申请号 |
CN200880025150.0 |
申请日期 |
2008.07.10 |
申请人 |
瓦克化学股份公司 |
发明人 |
T·戈特沙尔克高迪希;U·弗尔克尔 |
分类号 |
C09C1/30(2006.01)I;C09C1/36(2006.01)I;C09C1/40(2006.01)I;C09C3/12(2006.01)I;G03G9/097(2006.01)I |
主分类号 |
C09C1/30(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
过晓东 |
主权项 |
一种金属氧化物,其用通式(I)的基团修饰:-O1+n-Si(OR1)2-n-R2-NR32 (I)其中n可以是0、1、2,其中R1可以是氢原子或C-O键合的C1-C15烃基,或乙酰基,R2可以是Si-C键合的C1-C20烃基或芳基,或C1-C15烃氧基,其中每种情况下,一个或多个、非相邻亚甲基单元可以被基团-O-、-CO-、-COO-、-OCO-或-OCOO-、-S-或-NR3-替代,并且一个或多个非相邻次甲基单元可以被基团-N=、-N=N-或-P=替代,R3可以是氢原子或任选的单或多不饱和N-C键合的、单价的、任选二价的、C1-C20烃基,其任选被-CN、-NCO、-NR42、-COOH、-COOR4、卤素、丙烯酰基、环氧基、-SH、-OH或-CONR42取代,或芳基,或C1-C15烃氧基,其中每种情况下,一个或多个、非相邻亚甲基单元可以被基团-O-、-CO-、-COO-、-OCO-或-OCOO-、-S-或-NR4-替代,并且一个或多个非相邻次甲基单元可以被基团-N=、-N=N-或-P=替代,R3可以相同或不同,或者氨基-N(R3)2也可以是脂族或芳香杂环的部分,R4具有与R1相同的含义,并且R4可以相同或不同,基于T基团T1+T2+T3的总强度,T1和T2基团的NMR信号强度的总和的比例至少为20%,T基团定义如下:T1:R-Si(OR1)2-O-SiT2:R-Si(OR1)(-O-Si)2T3:R-Si(-O-Si)3,R是任何希望的有机基团,R1如上所定义或R1可以是氢原子。 |
地址 |
德国慕尼黑 |