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发明名称 POLYMERS FOR USE IN PHOTORESIST COMPOSITIONS
摘要 Photoresist compositions are disclosed.
申请公布号 EP2197924(A2) 申请公布日期 2010.06.23
申请号 EP20080806927 申请日期 2008.08.22
申请人 AZ ELECTRONIC MATERIALS USA CORP. 发明人 CHAKRAPANI, SRINIVASAN;PADMANABAN, MUNIRATHNA;THIYAGARAJAN, MUTHIAH;KUDO, TAKANORI;RENTKIEWICZ, DAVID, L.
分类号 C08F220/26;C08F220/18;G03F7/039 主分类号 C08F220/26
代理机构 代理人
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