| 发明名称 | 一种低电压液相电沉积制备类金刚石薄膜的方法 | ||
| 摘要 | 一种低电压液相电沉积制备类金刚石薄膜的方法，属于类金刚石薄膜制备技术领域。本发明方法以氧化铟锡导电玻璃为阴极，铂片为阳极，甲酰胺为电解液，在常温条件下，通过在阴阳两电极之间施加3～30V的直流电压，可在氧化铟锡导电玻璃阴极上沉积出类金刚石薄膜。该方法具有设备简单、能耗低、沉积速率快及成膜均一性好等优点，易于实现工业化生产。 | ||
| 申请公布号 | CN101381882B | 申请公布日期 | 2010.06.23 |
| 申请号 | CN200810103011.7 | 申请日期 | 2008.03.28 |
| 申请人 | 北京化工大学 | 发明人 | 杨文胜;王毅;陈晨 |
| 分类号 | C25D9/08(2006.01)I | 主分类号 | C25D9/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京华谊知识产权代理有限公司 11207 | 代理人 | 刘月娥 |
| 主权项 | 一种低电压液相电沉积制备类金刚石薄膜的方法，其特征在于，工艺步骤为：以预先清洗干净的氧化铟锡导电玻璃为阴极，铂片电极为阳极，甲酰胺为电解液，在10～40℃条件下，在阴阳两电极之间施加3～30V的直流电压1～30分钟，在氧化铟锡导电玻璃阴极上沉积出类金刚石薄膜；阴阳两电极之间的距离为10～30毫米。 | ||
| 地址 | 100029 北京市朝阳区北三环东路15号 | ||