| 发明名称 | 确定纹理映射参数以定义代表像素投影足迹的方法和装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于在图像处理器中计算纹理映射参数以定义代表像素在纹理映射上的投影的足迹的方法。该方法包括基于一对特定的偏导矢量(ux，vx)和(uy，vy)计算差值t；确定足迹方向值α所在的范围AngleRg，并得到差值t的近似参考差值t’；以及从LUT中AngleRg内获取对应于参考差值t’的足迹参考方向值α’。与纹理映射参数的精确计算相比本发明获得了改进的性能，与纹理映射参数的简单近似相比本发明获得了更优的图像质量。 | ||
| 申请公布号 | CN101751687A | 申请公布日期 | 2010.06.23 |
| 申请号 | CN200810207277.6 | 申请日期 | 2008.12.18 |
| 申请人 | 超威半导体(上海)有限公司 | 发明人 | 陈秦玉;周骥 |
| 分类号 | G06T15/00(2006.01)I | 主分类号 | G06T15/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海华晖信康知识产权代理事务所(普通合伙) 31244 | 代理人 | 樊英如 |
| 主权项 | 一种用于在图像处理器中确定纹理映射参数以定义代表像素在纹理映射上的投影的足迹的方法，包括：基于一对特定的偏导矢量(ux，vx)和(uy，vy)计算差值t；确定足迹方向值α所在的范围AngleRg，并得到差值t的近似参考差值t’；以及从LUT中AngleRg内获取对应于参考差值t’的足迹参考方向值α’。 | ||
| 地址 | 201203 上海市张江高科技园区张东路1387号科技领袖之都(东区)第48幢 | ||