内装式磁控溅射靶

摘要

本实用新型提供了一种内装式磁控溅射靶，包括屏蔽罩(1)、靶材压块(2)、靶材(3)、靶材背板(4)、靶体(5)、外磁靴(6)、屏蔽罩绝缘件(7)、底靴(8)、出水管(9)、内磁靴(10)、出水管绝缘件(11)；屏蔽罩(1)包裹靶体(5)，靶材压块(2)位于靶材(3)上面，靶材背板(4)位于靶材(3)背后，出水管(9)与靶体(5)相连。这样，可将可将磁控溅射靶安装于真空室内，有效利用真空室的空间，使真空镀膜机外观更为简洁，提高了设备的整体性能，尤为突出的特点在于可以通过简单的改造，在传统的镀膜设备上安装，可迅速实现技术升级。

主权项

一种内装式磁控溅射靶，包括屏蔽罩(1)、靶材压块(2)、靶材(3)、靶材背板(4)、靶体(5)、外磁靴(6)、屏蔽罩绝缘件(7)、底靴(8)、出水管(9)、内磁靴(10)、出水管绝缘件(11)；其特征在于，屏蔽罩(1)包裹靶体(5)，靶材压块(2)位于靶材(3)上面，靶材背板(4)位于靶材(3)背后，出水管(9)与靶体(5)相连。