| 发明名称 | 高穿透衰减式相位移光罩 | ||
| 摘要 | 一种衰减式相位移光罩，包含有一透光基板；一第一虚设垫层图案，其包含有一第一相位移材料层，且透光率大于或等于15%；以及一第一不透光图案，其形状与该第一虚设垫层图案相同，但面积小于该第一虚设垫层图案，且设于该第一虚设垫层图案之部位。 | ||
| 申请公布号 | TWI326391 | 申请公布日期 | 2010.06.21 |
| 申请号 | TW096115718 | 申请日期 | 2007.05.03 |
| 申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 陈志立 |
| 分类号 | G03F1/08;G03F1/06;H01L21/027 | 主分类号 | G03F1/08 |
| 代理机构 | 代理人 | 戴俊彦 | |
| 主权项 | 一种衰减式相位移光罩，包含有：一透光基板；一第一虚设垫层图案，其包含有一第一相位移材料层，且透光率大于或等于15%；以及一第一不透光图案，其形状与该第一虚设垫层图案相同，但面积小于该第一虚设垫层图案，且设于该第一虚设垫层图案之中央部位。 | ||
| 地址 | 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 | ||