发明名称 | 光罩的制作方法及光学近接修正的修补方法 | ||
摘要 | 一种光罩的制作方法。首先,提供光罩的图像资料,再对此图像资料进行光学近接修正,然后对光学近接修正后的图像资料进行制程规则检查。当图像资料中有至少一个未通过制程规则检查的失败图形时,仅对此失败图形进行一修补程序,以使其能通过制程规则检查。之后,依照经过前述光学近接修正及修补程序的图像资料来形成光罩的图案。 | ||
申请公布号 | TWI326388 | 申请公布日期 | 2010.06.21 |
申请号 | TW095142536 | 申请日期 | 2006.11.17 |
申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 林陵杰;李潜福;黄义雄 |
分类号 | G03F1/08;H01L21/027 | 主分类号 | G03F1/08 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | 一种光罩的制作方法,该光罩是用于一积体电路的制程中,以定义该积体电路的一第一图案,该方法包括:提供该光罩的图像资料;对该图像资料进行一光学近接修正;对该光学近接修正后的图像资料进行制程规则检查;当该图像资料中有至少一个未通过该制程规则检查的失败图形时,则仅对该失败图形进行修补程序,以使其能通过制程规则检查;以及依照经过该光学近接修正及该修补程序的图像资料来形成该光罩的图案。 | ||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号 |