画素结构的制作方法

摘要

一种画素结构的制作方法，其包括下列步骤。首先，于基板上形成闸极，并于基板上形成闸介电层以覆盖闸极。接着，于闸介电层上形成通道层，并于通道层上形成第二金属层。接着，于第二金属层上形成图案化光阻层，并以图案化光阻层为罩幕移除部分之第二金属层，以于闸极两侧的通道层上形成源极与汲极，其中闸极、通道层、源极以及汲极构成薄膜电晶体。之后，于图案化光阻层、闸介电层以及薄膜电晶体上形成保护层。移除图案化光阻层，以使图案化光阻层上之保护层一并被移除，而形成图案化保护层，并暴露出汲极。接着，于图案化保护层与汲极上形成一画素电极。

主权项

一种画素结构的制作方法，包括：提供一基板；形成一闸极于该基板上；形成一闸介电层于该基板上，以覆盖该闸极；形成一通道层于该闸极上方的该闸介电层上；形成一第二金属层于该通道层上；形成一图案化光阻层于该第二金属层上，并以该图案化光阻层为罩幕移除部分之该第二金属层，以于该闸极两侧的该通道层上形成一源极以及一汲极，其中该闸极、该通道层、该源极以及该汲极构成一薄膜电晶体；形成一保护层于该图案化光阻层、该闸介电层以及该薄膜电晶体上；移除该图案化光阻层，以使该图案化光阻层上之该保护层一并被移除，而形成一图案化保护层，并暴露出该源极与该汲极；以及形成一画素电极于该图案化保护层与该汲极上。