差值关键尺寸与叠对之度量装置及测量方法

摘要

一种在一基材上测量一尺寸的方法，其中以周期P之主要节距重复之标称(nomimal)特征尺寸提供一目标图案(455)，且垂直主要方向具有一预定变化。之后照射形成于基材上之目标图案(455)，使至少一非零级绕射级数被侦测。非零级绕射级数对相对于标称之印刷特征尺寸变化之回应，系用于决定在基材上之关注的尺寸，如关键尺寸或叠对。一种执行本发明之方法的装置，包含一照射源(410)、供侦测非零级绕射级数之一侦测器(460)，供定位相对于目标(455)之照射源(410)之一手段，以在侦测器侦测来自目标之一或多非零级绕射级数。

主权项

一种测量一基材上之一尺寸的方法，该方法包含下列步骤：提供一标称图案(nominal pattern)，该标称图案包含一系列的特征，在一主要方向具有周期(period)P之一主要节距(pitch)，其中该标称图案之特征在于一标称特征尺寸，该标称特征尺寸沿该主要方向以该周期P重复，且该标称特征尺寸沿该主要方向之一垂直方向具有一预定(pre-determined)之变化；对应该标称图案，在该基材上形成一目标图案(target pattern)，其中该目标图案具有一基材特征尺寸，该基材特征尺寸对应该标称特征尺寸；以特征为至少一波长之辐射照射该目标图案，以便从该目标图案产生绕射级数(order)；提供一关注尺寸与沿一或多非零级绕射级数之该垂直方向之一侦测变化间之一关系，以回应该基材特征尺寸之一偏差，该基材特征尺寸系相对于该标称特征尺寸；侦测沿该垂直方向之该一或多非零级绕射级数之该变化；以及根据该关系，基于该一或多非零级绕射级数之该侦测的变化，决定该关注尺寸。