涂布显影方法、涂布显影装置及记忆媒体

摘要

本发明的目的系在形成光阻膜的基板上形成拨水性保护膜，并在该表面形成液层以浸液曝光，且对曝光后的基板进行显影处理时，减少显影瑕疵并同时提高图案线幅的控制性。为达成上述目的，首先，从光阻膜表面形成液层状态下曝光过后的基板除去保护膜。接着对基板进行加热处理后，再对基板进行显影处理。该态样中，可在该保护膜除去前对曝光后的基板表面以洗净液洗净，或是在该保护膜除去后，到基板加热处理前，以洗净液洗净基板表面。

主权项

一种涂布显影方法，其特征为包含：一光阻膜形成步骤，在基板上形成光阻膜；一保护膜形成步骤，为了在使用液层进行曝光时保护该光阻膜，而将含有拨水性材料的保护膜形成用涂布液涂布于基板表面以形成保护膜；一保护膜除去步骤，从在光阻膜表面上形成有液层的状态下进行过曝光后的基板除去该保护膜；一加热处理步骤，在上述步骤后对基板进行加热处理；以及一显影处理步骤，接续于上述步骤后对基板进行显影处理；且在该保护膜除去步骤之前，以洗净液对曝光后基板表面进行洗净步骤。