基板处理装置

摘要

本发明的基板处理装置系具备有：索引器区块、端部清洗处理区块、抗反射膜用处理区块、光阻膜用处理区块、显影处理区块、光阻覆盖膜用处理区块、光阻覆盖膜去除区块、清洗/乾燥处理区块、及介面区块。将曝光装置配置成邻接基板处理装置之介面区块的状态。在曝光装置中利用浸渍法施行基板的曝光处理。在端部清洗处理区块的端部清洗处理部中，对曝光处理前的基板端部施行清洗。

主权项

一种基板处理装置，系邻接曝光装置而配置者，其具备有：处理部，其对基板进行处理；以及收授部，其邻接上述处理部一端部而设置，并在上述处理部与上述曝光装置之间，进行基板收授；其中，上述处理部包括有：第1处理单元，其对利用上述曝光装置施行曝光处理前的基板端部，使用毛刷施行清洗；第2处理单元，其对利用上述曝光装置施行曝光处理前的基板，形成由感光性材料所构成之感光性膜；以及第3处理单元，其对利用上述曝光装置施行曝光处理后的基板，施行显影处理；而上述第1处理单元对利用上述第2处理单元施行处理前的基板端部施行清洗。