| 摘要 |
1. Конструкция источника устройства для нанесения покрытия методом парофазной эпитаксии (VPE) c резервуаром (2), содержащим жидкий или твердый исходный материал (1) и имеющим по направлению вверх отверстие, с подающей линией (3) для реактивного газа (4), который вступает в реакцию с исходным материалом (1) для образования содержащего исходный материал технологического газа (5), с крышкой (6), находящейся непосредственно на исходном материале (1), отличающийся тем, что крышка (6) образует между собой и поверхностью (7) исходного материала (1) объем (8) для прохождения реактивного газа (4) параллельно поверхности (7), в который входит подающая линия (3). ! 2. Конструкция по п.1, отличающаяся тем, что крышка (6) плавает на исходном материале (1). ! 3. Конструкция по п.2, отличающаяся тем, что от крышки (6) отходят вниз несущие конструкции, в частности поплавки (9). ! 4. Конструкция по п.1, отличающаяся тем, что подающая линия (3) выполнена центральной и закрыта крышкой (6), причем газ проходит через объем (8) в радиальном направлении. ! 5. Конструкция по п.4, отличающееся тем, что она содержит зазор между кромкой (10) крышки (6) и стенкой (11) резервуара, причем образующийся технологический газ (5) проходит через этот зазор (12). ! 6. Конструкция по п.5, отличающаяся тем, что выходное отверстие (14) подающей линии выступает снизу в центральное одно (13) крышки (6). ! 7. Конструкция п.1, отличающееся тем, что резервуар (2) и крышка выполнены из кварца, графита, нитрита бора или сапфира. ! 8. Устройство для нанесения покрытия методом парофазной эпитаксии (VPE) с технологической камерой (21) и зоной источника, расположенной в направлении потока технологического газа перед технологическ� |
