| 发明名称 | 环状部件及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及环状部件及其制造方法，根据本发明的环状部件，能够抑制等离子体导致的消耗和生产率的恶化。在对晶片W实施等离子体蚀刻处理的基板处理装置(10)中，该环状部件是收纳于在内部产生等离子体的反应室(17)的聚焦环(24)，由在圆周方向上配设的4个单晶硅的圆弧状部件24a～24d构成，在各圆弧状部件24a～24d的上表面24a1～24d1、外侧面24a2～24d2，不出现易消耗的单晶硅的结晶面，例如密勒指数为{100}的结晶面。 | ||
| 申请公布号 | CN101740297A | 申请公布日期 | 2010.06.16 |
| 申请号 | CN200910207897.4 | 申请日期 | 2009.11.06 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 北岛次雄;小林义之 |
| 分类号 | H01J37/04(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 一种环状部件，其在对基板实施等离子体处理的基板处理装置中被收纳于在内部产生等离子体的收纳室，该环状部件的特征在于：由在圆周方向上配设的多个单晶材料的圆弧状部件构成，所述单晶材料的易消耗的结晶面不出现在各圆弧状部件的暴露于所述等离子体的面。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||