| 发明名称 | 腔室窗及等离子体工艺腔室 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种腔室窗及等离子体工艺腔室，腔室窗包括上盖，上盖的下表面设有内衬，腔室窗的边缘部位设有楔形支座，上盖和内衬支撑于楔形支座上，上盖与楔形支座之间设有密封圈，楔形支座支撑于工艺腔室的腔体上。工艺过程中，上盖部分主要承受大气压力；内衬部分主要抵抗等离子气体轰击和腐蚀，对上盖起到保护作用，可以通过更换内衬，延长上盖的使用寿命，减小对加工工艺的影响。 | ||
| 申请公布号 | CN101740336A | 申请公布日期 | 2010.06.16 |
| 申请号 | CN200810226478.0 | 申请日期 | 2008.11.12 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 李俊杰 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人 | 赵镇勇 |
| 主权项 | 一种腔室窗，包括上盖，其特征在于，所述上盖的下表面设有内衬。 | ||
| 地址 | 100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 | ||