| 发明名称 | 原子层沉积设备 | ||
| 摘要 | 一种原子层沉积设备，其包括反应腔室、第一加热器、第一气体供应系统、第二加热器、第二气体供应系统及真空系统。真空系统连接至反应腔室。反应腔室包括预热腔室及连接至预热腔室的镀膜腔室。第一加热器用以加热预热腔室。第一气体供应系统连接至预热腔室。第二加热器用以加热镀膜腔室。第二气体供应系统连接至镀膜腔室。 | ||
| 申请公布号 | CN101736317A | 申请公布日期 | 2010.06.16 |
| 申请号 | CN200810174825.X | 申请日期 | 2008.11.05 |
| 申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 孙文檠;钟允升;蓝崇文 |
| 分类号 | C23C16/455(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 彭久云 |
| 主权项 | 一种原子层沉积设备，包括：反应腔室，包括：预热腔室；以及镀膜腔室，连接至该预热腔室；第一加热器，用以加热该预热腔室；第一气体供应系统，连接至该预热腔室；第二加热器，用以加热该镀膜腔室；第二气体供应系统，连接至该镀膜腔室；以及真空系统，连接至该反应腔室。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹县 | ||