| 发明名称 | 抛光组合物 | ||
| 摘要 | 一种抛光组合物，它含有胶态二氧化硅、氢氧化钾、碳酸氢钾、和水，其抛光组合物中胶态二氧化硅的含量为2mass％或更多。抛光组合物中含有的胶态二氧化硅二次粒子的平均颗粒尺寸为60nm或更小。该抛光组合物适用于抛光半导体基板。 | ||
| 申请公布号 | CN1766028B | 申请公布日期 | 2010.06.16 |
| 申请号 | CN200510118816.5 | 申请日期 | 2005.10.28 |
| 申请人 | 福吉米株式会社 | 发明人 | 上村泰英 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人 | 徐申民;董红曼 |
| 主权项 | 一种抛光组合物，其特征在于，它含有胶态二氧化硅、氢氧化钾、碳酸氢钾和水，所述抛光组合物中胶态二氧化硅的含量为2-10mass％，所述抛光组合物中氢氧化钾的含量大于或等于抛光组合物中碳酸氢钾的含量，并且小于抛光组合物中碳酸氢钾含量的5倍，以及，所述抛光组合物中氢氧化钾和碳酸氢钾的总含量为0.15～0.75mass％。 | ||
| 地址 | 日本国爱知县 | ||