发明名称 根据电性测试数据控制栅极绝缘层的性能及特征的方法
摘要 本发明一般涉及根据电性测试数据(46)控制栅极绝缘层(16)的性能及特征的各种方法,以及执行该方法的系统。在一个示意性实施例中,该方法包括对至少一个半导体器件执行至少一个电性测试,根据从该电性测试所获得的电性数据确定至少一种工艺操作的至少一个参数,其中将执行该至少一种工艺操作以在后续形成的半导体器件上形成至少一层栅极绝缘层(16),以及执行包括所确定的参数的至少一种工艺操作以形成该栅极绝缘层(16)。
申请公布号 CN1820363B 申请公布日期 2010.06.16
申请号 CN200480019371.9 申请日期 2004.06.02
申请人 先进微装置公司 发明人 T·J·松德尔曼;P·拉尔
分类号 H01L21/66(2006.01)I 主分类号 H01L21/66(2006.01)I
代理机构 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人 程伟
主权项 一种控制栅级绝缘层的性能及特征的方法,包括:对至少一个闪存器件执行至少一个电性测试,以确定对所述闪存器件执行的编程周期的持续时间;根据所确定的所述编程周期的持续时间,确定至少一种工艺操作的至少一个参数,其中将执行所述至少一种工艺操作以在后续形成的闪存器件上形成至少一层栅极绝缘层;以及执行包括所确定的至少一个参数的所述至少一种工艺操作,以在所述后续形成的闪存器件上形成所述至少一层栅极绝缘层。
地址 美国加利福尼亚州