发明名称 A TWIN INTERNAL ION SOURCE FOR PARTICLE BEAM PRODUCTION WITH A CYCLOTRON
摘要
申请公布号 EP2196073(A1) 申请公布日期 2010.06.16
申请号 EP20090761635 申请日期 2009.05.29
申请人 ION BEAM APPLICATIONS S.A. 发明人 KLEEVEN, WILLEM;GHYOOT, MICHEL;ABS, MICHEL
分类号 H05H13/00 主分类号 H05H13/00
代理机构 代理人
主权项
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