| 发明名称 | 地砖及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供即使穿鞋步行时不易打滑、不易附着脏污的地砖及其制备方法。该地砖具有砖坯1、设置在该砖坯1的表面的釉层2、在该釉层2的表面上散点状设置的防滑用的凸部3。釉层2的表面经表面研磨。凸部3的高度t为0.1-1mm，凸部3的基底部的面积是每个为0.28-50mm2。相邻的接近的凸部3之间的距离L为1-10mm。凸部3的配置密度为1-100个/cm2。还可以是未设置釉层2的无釉砖，这种情况下，对砖坯1A表面进行研磨，设置凸部3。 | ||
| 申请公布号 | CN101736885A | 申请公布日期 | 2010.06.16 |
| 申请号 | CN200910226038.X | 申请日期 | 2009.11.13 |
| 申请人 | 株式会社伊奈 | 发明人 | 杉山修司;竹田道弘;新开诚司;酒井正树 |
| 分类号 | E04F15/08(2006.01)I | 主分类号 | E04F15/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 吴娟;孙秀武 |
| 主权项 | 地砖，其为表面设置有防滑用的凸部的地砖，其特征在于：凸部的高度为0.1-1mm，凸部的基底部的面积为0.28-50mm2，相邻的接近的凸部之间的平均距离为1-10mm。 | ||
| 地址 | 日本爱知县常滑市 | ||