| 发明名称 | 一种等离子发生装置及等离子处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种等离子发生装置。此装置包括：绝缘板(Smn)，沿第一方向及跨过第一方向的第二方向以矩阵形式排列；金属上板，包括其上设置绝缘板并具有四角形形状的贯通孔(Hmn)；天线结构体(Tmn)，设置于各绝缘板上。天线结构体包括：第一型天线结构体，接近于金属上板的边缘而设置；第二型天线结构体，接近于金属上板的边而设置；其中，第一型天线结构体比第二型天线结构体消耗更多的电力，从而可形成均匀等离子。 | ||
| 申请公布号 | CN101742807A | 申请公布日期 | 2010.06.16 |
| 申请号 | CN200910211247.7 | 申请日期 | 2009.11.05 |
| 申请人 | IPS有限公司 | 发明人 | 安成一;宋尚镐 |
| 分类号 | H05H1/24(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | H05H1/24(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人 | 周建秋;王凤桐 |
| 主权项 | 一种等离子发生装置，包括：绝缘板，沿第一方向及跨过第一方向的第二方向以矩阵形式排列；金属上板，包括其上设置绝缘板并具有四角形形状的贯通孔；及天线结构体，设置于各绝缘板上；其特征在于：上述天线结构体，包括：第一型天线结构体，接近于金属上板的边缘而设置；第二型天线结构体，接近于金属上板的边而设置；其中，第一型天线结构体比第二型天线结构体消耗更多的电力，从而可形成均匀等离子。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||