| 发明名称 | 半导体制造设备的清洁方法及装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种半导体制造设备的清洁方法及装置。在该方法的一实施例中，将该半导体制造设备置于一腔室中；导入一流体至该腔室中；控制该流体的压力及温度使其转变为超流体状态；以该超临界流体接触该半导体制造设备以清洁该半导体制造设备；自该腔室中移去该超临界流体；以及自该腔室中移去该半导体制造设备。本发明在清洗半导体设备时不但清洗效率高，而且清洗设备使用方便，成本较低。 | ||
| 申请公布号 | CN101740344A | 申请公布日期 | 2010.06.16 |
| 申请号 | CN200910134148.3 | 申请日期 | 2009.04.13 |
| 申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 古绍延;杨棋铭;徐子正 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/673(2006.01)I;B08B3/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 姜燕;陈晨 |
| 主权项 | 一种半导体制造设备的清洁方法，包括：将一半导体制造设备置于一腔室中；导入一超临界流体至该腔室中；以该超临界流体接触该半导体制造设备来清洁该半导体制造设备：自该腔室中移去该超临界流体；以及自该腔室中移去该半导体制造设备。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹市 | ||