| 发明名称 | 微型显示器的制作方法 | ||
| 摘要 | 一种微型显示器的制作方法，其是先提供具有像素区与周边电路区的基底，其中像素区已形成有金属反射层，且周边电路区已形成有周边电路。然后，在基底上形成介电层，以覆盖像素区与周边电路区。接着，在介电层上形成图案化掩模层，此图案化掩模层暴露出位于金属反射层上方的介电层。而后，以图案化掩模层为掩模，移除暴露出的介电层的一部分。继之，移除图案化掩模层。之后，移除部分介电层，以暴露出金属反射层。 | ||
| 申请公布号 | CN101740497A | 申请公布日期 | 2010.06.16 |
| 申请号 | CN200810173464.7 | 申请日期 | 2008.11.14 |
| 申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 李政勋;吴沂庭;孙伟宸;姜元升 |
| 分类号 | H01L21/82(2006.01)I;H01L21/822(2006.01)I;H01L21/311(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/82(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 蒲迈文 |
| 主权项 | 一种微型显示器的制作方法，包括：提供基底，该基底具有像素区与周边电路区，其中该像素区已形成有金属反射层，且该周边电路区已形成有周边电路；于该基底上形成介电层，以覆盖该像素区与该周边电路区；于该介电层上形成图案化掩模层，该图案化掩模层暴露出位于该金属反射层上方的该介电层；以该图案化掩模层为掩模，移除暴露出的该介电层的一部分；移除该图案化掩模层；以及移除部分该介电层，以暴露出该金属反射层。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹科学工业园区 | ||