发明名称 |
光掩模的制造方法及使用该光掩模的图案转印方法 |
摘要 |
本发明是对于光掩模,在透光性基板的主表面上形成遮光膜并使其以及形成图案,从而形成遮光膜图案,然后,对在该遮光膜图案中所含的Cr实施Cr离子降低处理,由此可以使作为生长性异物产生的主要原因的Cr离子降低,能够抑制生长性异物的产生。 |
申请公布号 |
CN101738847A |
申请公布日期 |
2010.06.16 |
申请号 |
CN200910221884.2 |
申请日期 |
2009.11.19 |
申请人 |
HOYA株式会社 |
发明人 |
村井诚;新地博之;土屋雅誉;本田邦之;田中友和;桥本宪尚 |
分类号 |
G03F1/08(2006.01)I;G03F1/14(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/08(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
蒋亭;苗堃 |
主权项 |
一种光掩模的制造方法,是对在透光性基板上形成的以Cr为主要成分的薄膜形成图案后而得到的光掩模的制造方法,其特征在于,包括下列工序:在所述薄膜上形成规定图案的工序;以及进行Cr离子降低处理工序,即:降低已形成所述图案的所述薄膜中所含的已离子化的Cr的量、或者抑制Cr的离子化。 |
地址 |
日本东京都 |