发明名称 |
离子注入装置 |
摘要 |
一种离子注入装置,其具有被设置成跨带状离子束路径在Y方向上相互面对的第一和第二磁体。第一和第二磁体与带状离子束行进方向交叉。第一和第二磁体的每一个都具有在离子束入口侧和出口侧的一对磁极。在第一磁体和第二磁体之间其极性相反。 |
申请公布号 |
CN101192499B |
申请公布日期 |
2010.06.16 |
申请号 |
CN200710193462.X |
申请日期 |
2007.11.27 |
申请人 |
日新离子机器株式会社 |
发明人 |
藤田秀树 |
分类号 |
H01J37/317(2006.01)I;H01L21/265(2006.01)I |
主分类号 |
H01J37/317(2006.01)I |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 |
代理人 |
梁晓广;陆锦华 |
主权项 |
一种离子注入装置,其中,将形成为带状的离子束照射到靶上,该带状在X方向上具有比在基本垂直于X方向的Y方向上尺寸大的尺寸,该离子注入装置包括:第一和第二磁体,其设置于靶的上游侧,跨带状离子束的路径在Y方向上相互面对,并且与带状离子束行进方向交叉,其中第一磁体具有在离子束的入口侧并具有第一极性的第一磁极,和在离子束的出口侧并具有与第一极性相反的第二极性的第二磁极,第二磁体具有在离子束的入口侧并具有第二极性的第一磁极,和在离子束的出口侧并具有第一极性的第二磁极,其中第一磁体的第一和第二磁极以及第二磁体的第一和第二磁极均形成在磁体的长边的基本整个长度上,和第一和第二磁体在相反方向上产生磁场,以使得将向内的洛仑兹力施加到两个磁体之间的离子束,并且在Y方向上窄化该离子束。 |
地址 |
日本京都 |