发明名称 |
一种在金属基带上连续制备YBCO超导层的方法 |
摘要 |
一种在金属基带上连续制备YBCO超导层的方法,包括:(1)在连续制备YBCO超导层的设备的真空腔体中,将带有隔离层的金属基带固定在不锈钢引带上;(2)以YBCO为靶材,靶基距为35~60mm;(3)在抽真空前调整激光光路,使激光聚焦于靶位,并位于金属基带正下方;(4)抽真空至真空腔体内的真空度优于3×10-4Pa,且将金属基带加热至750~820℃;再向真空腔体内通入氧气,并控制纯氧气氛为10~60Pa;(5)使金属基带匀速运动,用脉冲激光沉积方法在带有隔离层的金属基带上制备YBCO薄膜;(6)将制得有YBCO薄膜的金属基带进行原位退火,即在带有隔离层的金属基带上制成YBCO超导层。使用激光法制备的YBCO薄膜不仅有良好的织构和表面形貌,更有高的电性能,沉积速率可达到200nm/min。 |
申请公布号 |
CN101736296A |
申请公布日期 |
2010.06.16 |
申请号 |
CN200810225973.X |
申请日期 |
2008.11.07 |
申请人 |
北京有色金属研究总院 |
发明人 |
张华;杨坚;刘慧舟;冯校亮;周其;古宏伟 |
分类号 |
C23C14/34(2006.01)I;C23C14/58(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I;B32B15/04(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/34(2006.01)I |
代理机构 |
北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 |
代理人 |
程凤儒 |
主权项 |
一种在金属基带上连续制备YBCO超导层的方法,其特征在于:该方法包括下述步骤:(1)、在连续制备YBCO超导层的设备的真空腔体中,将带有隔离层的金属基带固定在不锈钢引带上,再将不锈钢引带固定在走带系统上;(2)、以YBCO为靶材,靶基距为35~60mm;(3)、在真空腔体中,采用脉冲激光沉积设备并在抽真空前调整激光光路,使激光聚焦于靶位,并位于金属基带正下方;(4)、抽真空至真空腔体内的真空度优于3×10-4Pa,且将金属基带加热至750~820℃并保持;再向真空腔体内通入氧气,并控制纯氧气氛为10~60Pa并保持;(5)、通过走带系统使金属基带匀速运动,用脉冲激光沉积方法在带有隔离层的金属基带上制备YBCO薄膜;(6)在真空腔体中,将制得有YBCO薄膜的金属基带进行原位退火,即在带有隔离层的金属基带上制成YBCO超导层。 |
地址 |
100088 北京市新街口外大街2号 |