发明名称 处理方法及处理装置
摘要 本发明之处理装置具有:连续处理被处理体之处理部;针对处理部处理过之被处理体检查其处理状态之检査部;依据检査部之检査结果,判定处理状态之良/不良的处理状态判定部;由处理状态判定部判定成不良时,判定不良之判定是否连续之连续性判定部;以及由连续性判定部判定成不良之判定为连续时,以停止处理部对被处理体之连续处理之方式控制处理的处理控制部。
申请公布号 TWI326108 申请公布日期 2010.06.11
申请号 TW092135746 申请日期 2003.12.17
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 奥本康博;唐泽涉
分类号 H01L21/02;H01L21/66;G05B13/00 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人 陈长文
主权项 一种处理方法,其特征在于具备:处理步骤,其系连续处理被处理体;检査步骤,其系针对前述处理步骤处理过之被处理体检查其处理后的状态;处理状态判定步骤,其系依据前述检査步骤之检査结果,判定处理状态之良/不良;连续性判定步骤,其系于前述处理状态判定步骤判定成不良时,判定不良之判定是否连续;再检査步骤,其系于前述连续性判定步骤中,判定不良之判定为连续时,再检査于前述处理状态判定步骤中判定为良且已处理之被处理体;检査状态判定步骤,其系依据前述再检査步骤之检査结果,判定前述检査步骤之检査状态;及处理控制步骤,其系于前述连续性判定步骤判定成不良之判定为连续时,以停止前述处理步骤之对被处理体之连续处理之方式控制处理。
地址 日本