发明名称 电容器及该电容器之制造方法
摘要 本发明系提供一种形成诱电体层于表面之导电体做为一方电极,半导体层做为另一方电极之制造电容器方法中,制作电气性微小缺陷部份于该诱电体层后,藉由通电手法使该半导体层形成于诱电体层上之电容器制造方法。藉由本发明之制造方法所取得之电容器其容量出现率为良好者、低ESR、良好信赖性者。
申请公布号 TWI326097 申请公布日期 2010.06.11
申请号 TW093102841 申请日期 2004.02.06
申请人 昭和电工股份有限公司 发明人 内藤一美;矢部正二
分类号 H01G9/00;H01G9/04;H01G9/145 主分类号 H01G9/00
代理机构 代理人 林志刚
主权项 一种电容器之制造方法,其特征系表面形成诱电体层之导电体做为一方电极,半导体层做为另一方电极之电容器制造方法中,该诱电体层之电气性微小缺陷部份制成导电体表面积之泄电流值为500μA/m2以下者后,藉由通电方法于诱电体层上形成该半导体层者。
地址 日本