发明名称 |
电容器及该电容器之制造方法 |
摘要 |
本发明系提供一种形成诱电体层于表面之导电体做为一方电极,半导体层做为另一方电极之制造电容器方法中,制作电气性微小缺陷部份于该诱电体层后,藉由通电手法使该半导体层形成于诱电体层上之电容器制造方法。藉由本发明之制造方法所取得之电容器其容量出现率为良好者、低ESR、良好信赖性者。 |
申请公布号 |
TWI326097 |
申请公布日期 |
2010.06.11 |
申请号 |
TW093102841 |
申请日期 |
2004.02.06 |
申请人 |
昭和电工股份有限公司 |
发明人 |
内藤一美;矢部正二 |
分类号 |
H01G9/00;H01G9/04;H01G9/145 |
主分类号 |
H01G9/00 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
一种电容器之制造方法,其特征系表面形成诱电体层之导电体做为一方电极,半导体层做为另一方电极之电容器制造方法中,该诱电体层之电气性微小缺陷部份制成导电体表面积之泄电流值为500μA/m2以下者后,藉由通电方法于诱电体层上形成该半导体层者。 |
地址 |
日本 |