酚之纯化方法

摘要

本发明提供一种纯化含有浓缩污染化合物的酚流体之方法。酚流体藉由在适当加工条件下将流体与具低矽含量但包括氧化铝及VIA族金属之处理触媒接触处理或纯化。

主权项

一种方法，其包括：纯化包括酚及污染浓度之羟酮之酚产物，其藉由在包含至多250℃之温度范围的适当接触条件下将该酚产物与处理触媒接触进行，该处理触媒系由氧化铝，该处理触媒总重量计为0.01重量%至25重量%之氧化矽及钼所组成。