Verfahren und System für eine fortschrittliche Prozesssteuerung in einem Ätzsystem durch Gasflusssteuerung auf der Grundlage von CD-Messungen

摘要

By controlling the flow rate of one or more gaseous components of an etch ambient during the formation of metal lines and vias on the basis of feedback measurement data from critical dimensions, process variations may be reduced, thereby enhancing performance and reliability of the respective metallization structure.