发明名称 |
电路板细线路的制造方法 |
摘要 |
一种电路板细线路的制造方法,包括下列步骤:提供一基板,该基板的顶面具有一第一导电层,该基板的底面具有一第二导电层;图形化该第一导电层使具有至少一开口;在所述至少一第一导电层开口处进行激光钻孔并穿透该基板,进而形成至少一盲孔;去除该图形化的第一导电层,并图形化该第二导电层以形成至少一导电垫于该盲孔下方;以化铜工艺形成一化铜层,该化铜层覆盖于该图形化基板的表面及该盲孔;在该化铜层的表面形成图形化光致抗蚀剂层;进行电镀以形成一图形化的第三导电层,用以形成多个细线路;以及去除该基板上的光致抗蚀剂层。本发明的制造方法可制作细线路。 |
申请公布号 |
CN101730386A |
申请公布日期 |
2010.06.09 |
申请号 |
CN200810169091.6 |
申请日期 |
2008.10.20 |
申请人 |
欣兴电子股份有限公司 |
发明人 |
范智朋 |
分类号 |
H05K3/00(2006.01)I;H05K3/46(2006.01)I |
主分类号 |
H05K3/00(2006.01)I |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 72003 |
代理人 |
陈晨;张浴月 |
主权项 |
一种电路板细线路的制造方法,其特征在于,包括下列步骤:提供一基板,该基板的顶面具有一第一导电层,该基板的底面具有一第二导电层;图形化该第一导电层使具有至少一开口;在所述至少一第一导电层该开口处进行激光钻孔并穿透该基板,进而形成至少一盲孔;去除该图形化的第一导电层,并图形化该第二导电层以形成至少一导电垫于该盲孔下方;以化铜工艺形成一化铜层,该化铜层覆盖该图形化基板、该导电垫的表面及该盲孔;在该化铜层的表面形成一图形化光致抗蚀剂层;进行电镀以形成一图形化的第三导电层,用以形成多个细线路;以及去除该基板上的该光致抗蚀剂层。 |
地址 |
中国台湾桃园县 |