| 发明名称 | 光刻设备以及去除污染物的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光刻设备以及去除污染物的方法，该光刻设备包括：流体供给系统，其配置以将清洁流体提供到将要清洁的表面。清洁流体包括：25-98.99wt％的水；1-74.99wt％的选自一种或更多种二元醇醚、酯、醇和酮的溶剂；和0.01-5wt％的表面活性剂。 | ||
| 申请公布号 | CN101727017A | 申请公布日期 | 2010.06.09 |
| 申请号 | CN200910174037.5 | 申请日期 | 2009.10.20 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | A·M·C·P·德琼;H·詹森;J·C·J·范德东克;H·戈特;J·H·范德伯格 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;C11D1/66(2006.01)I;C11D3/43(2006.01)I;C11D3/44(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王新华 |
| 主权项 | 一种光刻设备，包括：流体供给系统，配置以将清洁流体提供到将要清洁的表面，所述清洁流体包括：25-98.99wt％的水；1-74.99wt％的选自一种或更多种二元醇醚、酯、醇和酮的溶剂；和0.01-5wt％的表面活性剂。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||