用于紫外线曝光装置的真空吸附器

摘要

本发明涉及一种用于紫外线曝光装置的真空吸附器。更具体地说，涉及一种提高用于在印刷电路板上形成电路图形的曝光装置的曝光速度、并且减少曝光不良的用于上述曝光装置的真空吸附器。本发明涉及的用于紫外线曝光装置的真空吸附器包括聚酯薄膜层、丙烯酰胺树脂板和固定框架。上述聚酯薄膜层固定在上述固定框架的一侧面，上述丙烯酰胺树脂板固定在上述聚酯薄膜层的上面。另外，上述真空吸附器的上述固定框架将上述丙烯酰胺树脂板隔着一定间距固定在上述聚酯薄膜层的上面。本发明在曝光过程中，不需要使用板条平刮聚酯薄膜的人工作业，从而可提高工作效率，同时防止因作业熟练度的不同而产生不合格产品的情况。

主权项

一种用于紫外线曝光装置的真空吸附器，包括：聚酯薄膜层；丙烯酰胺树脂板；固定框架，具有在一侧面固定聚酯薄膜层的聚酯薄膜载置部，和为了在上述聚酯薄膜载置部的另一侧面固定上述丙烯酰胺树脂板而同上述聚酯薄膜载置部结合的丙烯酰胺树脂板固定部。