发明名称 四程放大系统远场监视装置及其准直方法
摘要 一种用于高功率激光装置的四程放大系统远场监视装置及其准直方法,装置的构成包括:在所述的滤波小孔板后紧贴该滤波小孔板插入取样光栅;在四程放大系统的主激光束外设置发光二极管和准直透镜形成的照明光束以一定角度照明所述的取样光栅;在所述的一级衍射光方向设置成像透镜和CCD探测器,该CCD探测器的探测面位于所述的成像透镜的像平面,该CCD探测器的输出端接计算机。本发明解决了四程放大系统远场取样和准直调整的难题,具有设备简单、精度高等优点。
申请公布号 CN101408680B 申请公布日期 2010.06.09
申请号 CN200810202973.8 申请日期 2008.11.19
申请人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明人 高妍琦;刘代中;朱宝强;林尊琪;刘晓凤
分类号 G02B27/46(2006.01)I;G02B27/30(2006.01)I;G02F1/35(2006.01)I 主分类号 G02B27/46(2006.01)I
代理机构 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人 张泽纯
主权项 一种四程放大系统远场监视装置,特征在于其构成包括:由依次的第一反射镜(101)、偏振反射镜(111)、第一透镜(105)、半波片(112)、滤波小孔板(106)、第二透镜(109)和第二反射镜(110)构成的四程放大系统,所述的滤波小孔板(106)中心对称地分布着第一滤波小孔(301)、第二滤波小孔(302)、第三滤波小孔(303)和第四滤波小孔(304),在所述的滤波小孔板(106)后紧贴该滤波小孔板(106)插入取样光栅(113),所述的取样光栅(113)与所述的滤波小孔板(106)的四个滤波小孔相对应,制作了第一非刻蚀区(411~414),第二非刻蚀区(421~424),第三非刻蚀区(431~434),第四非刻蚀区(441~444),每个非刻蚀区由四个非刻蚀的小圆区构成,所述的第一非刻蚀区(411~414)、第二非刻蚀区(421~424)、第三非刻蚀区(431~434)和第四非刻蚀区(441~444)的四个非刻蚀的小圆区的对称中心分别构成第一远场基准、第二远场基准、第三远场基准和第四远场基准,对准时,所述的第一远场基准、第二远场基准、第三远场基准和第四远场基准分别与所述的滤波小孔板(106)的第一滤波小孔(301)、第二滤波小孔(302)、第三滤波小孔(303)和第四滤波小孔(304)的中心重合;在四程放大系统的主激光束外设置发光二极管(108)和准直透镜(107),由发光二极管(108)发出的光通过准直透镜(107)形成的照明光束(202)以一定角度照明所述的取样光栅(113),该一定角度由照明光束(202)经所述的取样光栅(113)产生的一级衍射光(205)的方向和所述的主激光(201)经所述的取样光栅(113)产生的一级衍射光(204)的方向重合来决定;在照明光束(202)经所述的取样光栅(113)产生的一级衍射光(205)方向设置成像透镜(114)和CCD探测器(115),该CCD探测器(115)的探测面位于所述的成像透镜(114)的像平面,该CCD探测器(115)的输出端接计算机。
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