发明名称 一种高温冶金法制备太阳能级多晶硅的工艺
摘要 一种高温冶金法制备太阳能级多晶硅的工艺,属于冶金技术领域,步骤包括将二氧化硅原料和碳质还原剂分别进行酸洗和真空预处理,混合后进行电弧冶炼;在冶炼获得的硅中加入造渣剂并在搅拌条件下进行炉外精炼,将炉外精炼结束后获得的硅置于真空感应炉中,抽真空通入保护气体升温至1500~1900℃搅拌精炼10~30min,再抽真空至≤0.1Pa,冷却。该方法可采用现有的常规设备,通过逐步提高纯度的方法,采用相对简单的步骤获得纯度99.9999%以上的高纯度多晶硅。本发明的方法能够产生巨大的经济效益,具有良好的应用前景。
申请公布号 CN101724902A 申请公布日期 2010.06.09
申请号 CN200910248411.1 申请日期 2009.12.16
申请人 东北大学 发明人 邢鹏飞;庄艳歆;吴文远;涂赣峰;李峰
分类号 C30B29/06(2006.01)I;C30B28/04(2006.01)I 主分类号 C30B29/06(2006.01)I
代理机构 沈阳东大专利代理有限公司 21109 代理人 李在川
主权项 一种高温冶金法制备太阳能级多晶硅的工艺,步骤包括将二氧化硅原料和碳质还原剂分别进行酸洗预处理、冶炼还原、精炼和定向凝固步骤;其特征在于所述的冶炼还原步骤为:将酸洗预处理后的碳质还原剂和二氧化硅原料混合后进行电弧冶炼,碳质还原剂与二氧化硅原料的配比按还原SiO2所需C量的1.1~1.3倍,电弧冶炼采用埋弧电弧冶炼方法;精炼的步骤为:在冶炼获得的硅中加入造渣剂并在搅拌条件下进行炉外精炼,造渣剂的加入量为硅总重量的5~30%,精炼温度为1550~2000℃,搅拌时间为10~30min,去除矿渣后结束炉外精炼;将炉外精炼结束后获得的硅置于真空感应炉中,抽真空至≤0.1Pa,通入保护气体至压力为0.05~0.1MPa,然后升温至1500~1900℃搅拌精炼10~30min,再抽真空至≤0.1Pa,冷却后获得固体硅。
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