发明名称 |
基板处理方法以及基板处理装置 |
摘要 |
本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置,在从喷出喷嘴向基板的表面喷出清洗液并使喷出喷嘴扫描而使基板旋转干燥时,能够抑制在基板周边部的液体飞溅,并能够防止由液体飞溅产生的液滴再次附着在基板上。由旋转卡盘(10)将基板(W)保持为水平姿势,而通过旋转马达(14)使基板(W)围绕铅垂轴旋转,并且,从纯水喷出喷嘴(20)的喷出口向基板的表面喷出清洗液的同时,使纯水喷出喷嘴的喷出口从与基板中心相对的位置扫描到与基板周边相对的位置,此时,在喷出喷嘴的喷出口从与基板中心相对的位置移动到与基板周边相对的位置的过程中,使基板的转速降低。 |
申请公布号 |
CN101075553B |
申请公布日期 |
2010.06.09 |
申请号 |
CN200710104103.2 |
申请日期 |
2007.05.16 |
申请人 |
大日本网目版制造株式会社 |
发明人 |
堀晋平;真田雅和;后藤友宏 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;H01L21/3105(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;G03F7/30(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 72003 |
代理人 |
王玉双 |
主权项 |
一种基板处理方法,将显影处理后的基板保持为水平姿势并使基板围绕铅垂轴旋转,并且,从喷出喷嘴的喷出口向基板的表面喷出清洗液的同时,使所述喷出喷嘴的喷出口从与基板中心相对的位置扫描到与基板周边相对的位置,其特征在于,在所述喷出喷嘴的喷出口从与基板中心相对的位置移动到与基板周边相对的位置的过程中,使基板的转速降低,然后,在所述喷出喷嘴的喷出口到达与基板周边相对的位置时,停止从所述喷出喷嘴的喷出口向基板的表面喷出清洗液,对基板进行干燥处理。 |
地址 |
日本京都府京都市 |