| 发明名称 | 用于影响横流中的再循环区的方法和装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种横流装置(100)，其包括表面(130)和定位在表面(130)上的至少一个出口(140)。横流装置(100)还包括至少一个位于表面(130)上的导向件(180)，其配置成引导流过表面(130)的相交流(150)，并在所述至少一个出口(140)的下游提高从所述至少一个出口(140)排出的横流(160)的速度。 | ||
| 申请公布号 | CN101726003A | 申请公布日期 | 2010.06.09 |
| 申请号 | CN200910168959.5 | 申请日期 | 2009.08.31 |
| 申请人 | 通用电气公司 | 发明人 | M·芭蒂娜;R·辛格 |
| 分类号 | F23R3/28(2006.01)I;F23D11/38(2006.01)I;F23D14/48(2006.01)I;F23D14/70(2006.01)I | 主分类号 | F23R3/28(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 严志军;刘华联 |
| 主权项 | 一种横流装置(100)，包括：表面(130)；定位在所述表面(130)上的至少一个出口(140)；以及位于所述表面(130)上的至少一个导向件(180)，配置成引导流过所述表面(130)的相交流(150)，并在所述至少一个出口(140)的下游提高从所述至少一个出口(140)排出的横流(160)的速度。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||