| 发明名称 | 用于电解处理板状产品的装置和方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用处理介质对产品(L)进行电解处理的装置，用于使板状产品的处理更均匀。该装置包括：用于将产品(L)保持在装置中的设备(40、42)，一个或多个流动设备(10)，每个流动设备包括至少一个喷嘴(15)并被设置成与产品(L)相对地定位，一个或多个相对电极(30)，其相对于处理介质是惰性的并平行于至少一个处理表面设置，用于在平行于处理表面的至少一个方向上在一个侧面上的产品(L)和另一侧面上的流动设备(10)和/或相对电极之间产生相对运动的装置(44)。产品(L)能在处理期间浸入至处理介质中。 | ||
| 申请公布号 | CN101730760A | 申请公布日期 | 2010.06.09 |
| 申请号 | CN200880018855.X | 申请日期 | 2008.06.03 |
| 申请人 | 埃托特克德国有限公司 | 发明人 | R·施奈德;H·孔策;F·维纳 |
| 分类号 | C25D17/00(2006.01)I;C25D5/08(2006.01)I;C25D5/04(2006.01)I;C25D21/10(2006.01)I | 主分类号 | C25D17/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 王琼先;王永建 |
| 主权项 | 一种用处理介质对板状产品(L)进行电解处理的装置，该产品(L)设置在该装置内并具有至少一个基本上呈平面的处理表面，其中所述装置包括：i)用于将产品(L)保持在装置中的设备(40、42)，ii)一个或多个流动设备(10)，每个流动设备包括至少一个喷嘴(15)并被设置成与产品(L)相对地定位，iii)一个或多个相对电极(30)，其相对于处理介质是惰性的并平行于至少一个处理表面设置，iv)用于在平行于处理表面的至少一个方向上在一侧的产品(L)和另一侧的流动设备(10)和/或相对电极(30)之间产生相对运动的装置(44)。 | ||
| 地址 | 德国柏林 | ||